ACM Research

ACM Research, Inc., bersama dengan anak perusahaannya, mengembangkan, memproduksi, dan menjual peralatan pembersih basah wafer tunggal untuk meningkatkan proses produksi dan hasil chip terintegrasi di seluruh dunia. Ia menawarkan teknologi pergeseran fasa bergantian ruang untuk permukaan wafer datar dan berpola, yang menggunakan fase gelombang megasonik bergantian untuk menyalurkan energi megasonik secara seragam pada tingkat mikroskopis; teknologi osilasi gelembung berenergi tepat waktu untuk permukaan wafer berpola pada node proses lanjutan, yang menyediakan pembersihan untuk wafer berpola 2D dan 3D dengan ukuran fitur yang bagus; Teknologi Tahoe untuk memberikan kinerja pembersihan menggunakan lebih sedikit asam sulfat dan hidrogen peroksida; dan teknologi pelapisan elektro-kimia untuk pelapisan logam tingkat lanjut. Perusahaan memasarkan dan menjual produknya dengan merek Ultra C melalui tenaga penjualan langsung dan perwakilan pihak ketiga. ACM Research, Inc. didirikan pada tahun 1998 dan berkantor pusat di Fremont, California.