CVD Equipment

CVD Equipment Corporation merancang, mengembangkan, memproduksi, dan menjual peralatan proses dan solusi yang digunakan untuk mengembangkan dan memproduksi bahan dan pelapis untuk penelitian dan aplikasi industri di Amerika Serikat dan internasional. Ini beroperasi melalui tiga segmen: Bahan CVD, SDC, dan CVD. Perusahaan ini menawarkan sistem pengendapan uap kimia untuk digunakan dalam penelitian, pengembangan, dan pembuatan ruang angkasa, komponen medis, semikonduktor, LED, tabung nano karbon, kawat nano, sel surya, dan aplikasi industri lainnya; dan sistem pemrosesan termal cepat untuk digunakan dalam aktivasi implan, oksidasi, pembentukan silisida, dan proses lainnya. Ini juga menyediakan tungku pengendapan uap kimia bertekanan rendah, difusi, dan anil untuk digunakan dalam difusi, oksidasi, anil implan, reflow solder, pembuatan sel surya, dan proses lainnya; dan sistem kontrol gas dan cairan, seperti lemari penyimpanan tabung gas, sistem pengiriman gas dan bahan kimia khusus, kotak manifold katup gas dan cairan, dan kotak isolasi gas untuk proses fabrikasi semikonduktor, sel surya, LED, tabung nano karbon, kawat nano, dan aplikasi industri . Selain itu, perusahaan menawarkan peralatan kuarsa standar dan buatan khusus yang digunakan dalam peralatannya dan peralatan pelanggan lainnya, serta layanan perbaikan dan penggantian untuk peralatan kuarsa yang ada. Lebih jauh lagi, ia menyediakan pencetakan tulis langsung MesoPlasma, suatu proses pengendapan bahan yang menyediakan instrumentasi, pola fitur halus, dan pelapisan pada komponen konformal; dan lapisan tahan korosi Tantaline untuk katup, fitting, pengencang, bejana, bellow, dan item yang dirancang khusus, serta menawarkan komposit karbon dan material elektronik. Perusahaan menjual produknya terutama ke luar angkasa/pertahanan, medis, produsen komponen elektronik, universitas, dan laboratorium pemerintah dan industri. CVD Equipment Corporation didirikan pada tahun 1982 dan berkantor pusat di Central Islip, New York.