ACM Research

ACM Research, Inc. ร่วมกับบริษัทในเครือ พัฒนา ผลิต และจำหน่ายอุปกรณ์ทำความสะอาดเปียกแบบแผ่นเดียว เพื่อปรับปรุงกระบวนการผลิตและผลผลิตสำหรับชิปแบบรวมทั่วโลก นำเสนอเทคโนโลยีการเปลี่ยนเฟสสลับพื้นที่สำหรับพื้นผิวเวเฟอร์แบนและมีลวดลาย ซึ่งใช้เฟสสลับของคลื่นเมกะโซนิกเพื่อส่งพลังงานเมกะโซนิกในลักษณะที่สม่ำเสมอในระดับจุลทรรศน์ เทคโนโลยีการสั่นแบบฟองสบู่ที่มีพลังตามเวลาสำหรับพื้นผิวเวเฟอร์ที่มีลวดลายที่โหนดกระบวนการขั้นสูง ซึ่งให้การทำความสะอาดเวเฟอร์ที่มีลวดลาย 2D และ 3D ด้วยขนาดคุณสมบัติที่ละเอียด เทคโนโลยีทาโฮมอบประสิทธิภาพการทำความสะอาดโดยใช้กรดซัลฟิวริกและไฮโดรเจนเปอร์ออกไซด์น้อยลง และเทคโนโลยีการชุบเคมีไฟฟ้าเพื่อการชุบโลหะขั้นสูง บริษัททำการตลาดและจำหน่ายผลิตภัณฑ์ภายใต้ชื่อแบรนด์ Ultra C ผ่านทางพนักงานขายตรงและตัวแทนบุคคลที่สาม ACM Research, Inc. ก่อตั้งในปี 1998 และมีสำนักงานใหญ่ในเมืองฟรีมอนต์ รัฐแคลิฟอร์เนีย