CVD Equipment

CVD Equipment Corporation thiết kế, phát triển, sản xuất và bán các giải pháp và thiết bị xử lý được sử dụng để phát triển và sản xuất vật liệu cũng như lớp phủ cho nghiên cứu và ứng dụng công nghiệp tại Hoa Kỳ và quốc tế. Nó hoạt động thông qua ba phân khúc: CVD, SDC và Vật liệu CVD. Công ty cung cấp các hệ thống lắng đọng hơi hóa học để sử dụng trong nghiên cứu, phát triển và sản xuất hàng không vũ trụ, linh kiện y tế, chất bán dẫn, đèn LED, ống nano carbon, dây nano, pin mặt trời và các ứng dụng công nghiệp khác; và các hệ thống xử lý nhiệt nhanh để sử dụng trong quá trình kích hoạt, oxy hóa, hình thành silic và các quá trình khác. Nó cũng cung cấp các lò ủ, khuếch tán và lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp để sử dụng trong khuếch tán, oxy hóa, ủ mô cấy, hàn nóng chảy lại, sản xuất pin mặt trời và các quy trình khác; và các hệ thống điều khiển khí và lỏng, chẳng hạn như tủ lưu trữ bình chứa khí, hệ thống phân phối khí và hóa chất tùy chỉnh, hộp phân phối van khí và lỏng, và hộp cách ly khí cho quy trình chế tạo chất bán dẫn, pin mặt trời, đèn LED, ống nano carbon, dây nano và các ứng dụng công nghiệp . Ngoài ra, công ty còn cung cấp đồ thạch anh chế tạo theo tiêu chuẩn và tùy chỉnh được sử dụng trong thiết bị của mình và các công cụ khác của khách hàng, cũng như các dịch vụ sửa chữa và thay thế cho đồ thạch anh hiện có. Hơn nữa, nó còn cung cấp tính năng in ghi trực tiếp MesoPlasma, một quy trình lắng đọng vật liệu cung cấp thiết bị đo, các mẫu tính năng tinh xảo và lớp phủ lên các bộ phận phù hợp; và lớp phủ chống ăn mòn Tantaline cho van, phụ kiện, ốc vít, bình chứa, ống thổi và các mặt hàng được thiết kế theo yêu cầu, đồng thời cung cấp vật liệu tổng hợp cacbon và vật liệu điện tử. Công ty bán sản phẩm của mình chủ yếu cho các nhà sản xuất hàng không vũ trụ/quốc phòng, y tế, linh kiện điện tử, trường đại học, chính phủ và các phòng thí nghiệm công nghiệp. CVD Equipment Corporation được thành lập vào năm 1982 và có trụ sở chính tại Central Islip, New York.